Target di rame rotante

Target di rame rotante
Dettagli:
Il bersaglio del rame rotante, noto anche come bersaglio di sputtering rotabile o cilindrico, viene utilizzato in alcuni tipi di sistemi di sputtering, come lo sputtering del magnetron, per migliorare l'uniformità e l'efficienza del processo di sputtering. Gli obiettivi di sputtering rotante di Fabmann sono prodotti da una varietà di tecniche di produzione avanzate, tra cui la lavorazione a CNC di precisione, il legame efficace delle maniche e la tradizionale soluzione di fusione convenzionale.
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Descrizione
Parametri tecnici

Gli obiettivi di rame rotabili sono rame specializzati senza ossigeno con una purezza estremamente elevata utilizzata in una tecnica di deposizione sputtering chiamata sputtering magnetron. Lo sputtering è un processo di deposizione di vapore fisico (PVD), un processo ad alta velocità in cui gli ioni superveniti colpiscono un bersaglio di sputtering e rimuovono particelle minuscole, ampiamente utilizzate in semiconduttore, elettronica e industrie a film sottili per depositare film sottili di vari materiali su substrati.

 

 

Processo di produzione

Il processo di produzione standard del bersaglio di rame rotatorio inizia dalla fusione del vuoto, dalla fusione di lingotti di rame elettrolitico e dall'estrusione calda e dalla lavorazione dei lingotti. In primo luogo, il lingotto di rame di alta purezza viene prodotto attraverso lo scioglimento del vuoto, quindi è estruso a caldo in vuoto del tubo di rame. Successivamente è che raddrizzato dalla macchina di calibrazione idraulica per ottenere una rettilità inferiore a 1 mm/m. Successivamente, il vuoto del tubo raddrizzato viene elaborato di precisione sulla macchina CNC alla sua precisione dimensionale nel frattempo la rugosità superficiale deve soddisfare i requisiti specificati. Fabmann può fornire materiali target di rame premium in diversa parità come 4N (99,99%), 4N5 (99,995%) e 5N (99,999%) per i sistemi OEM PVD (deposizione fisica del vapore) per le prestazioni minime. Possiamo fornire materiali target di sputter di rame rotatorio e planari con dimensioni della grana inferiori a 80μm e contenuto di ossigeno inferiore alle 5 ppm. Di seguito è riportato un processo di produzione dettagliato:

4N Rotary Copper Target

√ Il rame elettrolitico ad alta purezza viene posizionato in un forno di fusione a induzione a vuoto e quindi viene eseguita la fusione del vuoto.

√ Il rame fuso ottenuto viene fluito nel cristallizzatore della fornace di fusione per il lingotto rotondo di rame.

√ Il lingotto di rame viene quindi trasferito nella canna di estrusione per estrusione calda e richiede una pressione minima da 25KN con temperatura 400-500 gradi. È fondamentale che la pressione sia abbastanza grande da ottenere dimensioni del grano inferiori a 150 μm durante il processo di estrusione calda.

√ Il vuoto del tubo di rame viene naturalmente raffreddato a temperatura ambiente e quindi raddrizzato in seguito. Se la parete del tubo di rame è maggiore di 20 mm, è necessario riscaldare il tubo tra 200 ~ 300 gradi prima del raddrizzamento.

√ Il vuoto del tubo di rame viene tagliato e lavorato alle specifiche desiderate ed è necessario spruzzare il liquido di raffreddamento per evitare che il target del tubo di rame si deformi a causa della stress di lavorazione.

√ Dopo la macinatura e la lucidatura, si ottiene il materiale target rotatorio finito.

√ Controllo di qualità, questo è uno dei processi più importanti per confermare se il prodotto è fino alle specifiche. Include ispezione visiva, controllo dimensionale e misurazioni della rugosità superficiale. Implica anche una serie di test come controllo della struttura metallografica, analisi di ossigeno/idrogeno, fluorescenza a raggi X (XRF), spettrometria di massa a scarica luminosa (GDMS), per verificare la purezza e la composizione del bersaglio.

 

Custom Rotary Copper Target

Target di rame rotante personalizzato

 

Confrontando con obiettivi planari, il bersaglio rotante contiene più materiale e offre un maggiore utilizzo, il che significa corse di produzione più lunghe e ridotto tempi di inattività del sistema, aumenta la produttività dell'attrezzatura di rivestimento. Inoltre, il bersaglio dello sputter rotativo consente l'uso di densità di potenza più elevate a causa dell'accumulo di calore che si diffonde uniformemente sulla superficie del bersaglio. Di conseguenza, si potrebbe ottenere una maggiore velocità di deposizione insieme a prestazioni migliorate durante lo sputtering reattivo.

 

Vantaggi

 

√ L'uniformità migliorata, la rotazione del bersaglio aiuta a ottenere più erosione e deposizione uniformi attraverso la sua superficie. Man mano che il bersaglio ruota, diverse aree del bersaglio sono esposte al bombardamento ionico, portando a maggiori tassi di erosione e deposizione.

√ Utilizzo del bersaglio migliorato, l'erosione viene diffusa su una superficie più ampia, riducendo il danno localizzato ed estendendo la durata della vita del bersaglio. Ciò aiuta anche a migliorare l'efficienza del processo e riduce i tempi di inattività per la sostituzione del bersaglio.

√ Tasso di deposizione avanzato, il movimento rotazionale del bersaglio può migliorare la ionizzazione e l'efficienza sputtering, che portano a tassi di deposizione più elevati riducendo al contempo il tempo complessivo del processo richiesto per ottenere lo spessore del film desiderato.

√ La qualità del film migliorata, l'utilizzo e l'uniformità del bersaglio migliorato possono ridurre al minimo difetti, impurità e stress all'interno dei film depositati, con conseguente miglioramento delle proprietà elettriche, ottiche e meccaniche.

 

Dimensione e capacità

 

Fabmann è dedicato a fornire un servizio di fabbricazione personalizzato e di seguito è il nostro ambito di fornitura:

 

√ od da 2 pollici a7 pollici

√ ID da 1,5 pollici a 6 pollici

√ Lunghezza da 50 pollici a 130 pollici (da 1.270 mm a 3.302 mm)

√ Servizio di legame disponibile

√ 4N (99.99%), 4N5 (99.995%) & 5N (99.999%)

 

 

 

 

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